Tipptasemel valdkondades, nagu nano-tuvastus, nägemise mõõtmine, pooljuhtide defektide kontroll ja optiline interferomeetria, määrab kontrolliplatvormide võrdlustasa otseselt kogu mõõtmissüsteemi andmete usaldusväärsuse. Kuna täppistootmine areneb submikroniliste ja nanomeetriliste skaalade suunas, ei suuda tavapäraste tehnikatega töödeldud kiviplatvormid enam rahuldada kõrgetasemeliste laborikatsete ja masstootmise kontrollimise nõudeid. Paljud seadmete tootjad on avastanud, et isegi kui need on varustatud esmaklassiliste mõõteanduritega, tekivad kandeplatvormi võrdlustasapinna kõrvalekaldumisel pidevalt süstemaatilisi mõõtmisvigu. Seetõttu on nanomeetrilise tasapinnaga graniidist kontrollplatvormide ehitamine{7} muutunud paljude täppiskontrolliseadmetega tegelevate ettevõtete jaoks oluliseks uurimisobjektiks.
Ülikõrget tasapinnalist{0}}täpsust ei ole võimalik saavutada ühe töötlusprotsessiga. See saavutatakse tooraine töötlemise, tootmiskeskkonna kontrolli, järkjärgulise lihvimise ja täppiskontrolli koordineerimisega. Nanomõõtmelise täpsuse tolerantsi aken on äärmiselt kitsas; mis tahes hooletus protsessis põhjustab ebarahuldavaid tasasuse näitajaid. Enamikul turul olevatest kivitöötlemisvabrikutest on ainult mikroni{4}}tasemel töötlemisvõimsus ja neil puudub täielik-protsessi täpsuse juhtimisvõime. Aastatepikkuse kogemusega, mis on spetsialiseerunud kohandatud ülitäpsetele graniidikomponentidele, keskendub UNPARALLELED Group tipptasemel-kontrolliseadmete toetamisele. Oleme välja töötanud küpsed terviklikud tootmislahendused nanomeetri-klassi graniidist platvormidele, pakkudes mõõteseadmete tootjatele kogu maailmas-stabiilseid ja kõrge täpsusega võrdlustasandite lahendusi.
Tooraine on ülima tasasuse saavutamise eeltingimus. Tavalisel graniidil on ebaühtlane terade jaotus ja väikesed looduslikud mikrolõhed, mis vallandavad pideva töötlemise ja pikaajalisel{1}}kasutamisel kergesti lokaalseid deformatsioone. Võtame kasutusele isearendatud UNPARALLELED® suure-tihedusega musta graniidi, millel on tihedalt ja ühtlaselt jaotunud kivimiterad. Toores kivi ei sisene töötlemisse vahetult pärast sissetulevat kontrolli; selle asemel läbib see segmenteeritud vananemisravi. Pikendatud staatiline säilitamine vabastab kivimi sisemise pinge, et vältida plaadi järkjärgulist deformatsiooni pärast töötlemise lõpetamist, vältides põhimõtteliselt tasasuse halvenemist aja jooksul. Me eristame rangelt metroloogia-kvaliteediga-graniidist inseneri-klassi graniidist ega kasuta kunagi-odavaid kivimaterjale suure täpsusega{11}}kontrolliplatvormide tootmiseks.
Lihvimistehnoloogia on nanomõõtmelise tasasuse saavutamise põhiprotseduur ja tähistab eraldusjoont tavaliste kivitöökodade ja ülitäpsete{0}tootjate vahel. Tavaline poleerimine võib saavutada ainult mikroni{2}}täpsuse. Nanomeetristandardite saavutamiseks on vaja järkjärgulist mitmeastmelist{4}}lihvimisprotseduuri. Platvorm läbib järgemööda töötlemata lihvimise, pool{6}}lihvimise, peenlihvimise ja lõpliku ülitäpse{7}poleerimise. Abrasiivide tera suurus väheneb samm-sammult, et eemaldada varasematest protsessidest tekkinud peened tööriistajäljed. Kõik viimistlustööd tehakse klassi 10 000 püsiva-temperatuuri ja püsiva{13}}niiskuse{14}tolmuvabas töökojas. Töökoda on varustatud sõltumatute -vibratsioonivastaste vundamentidega ja isoleeritud vibratsioonivastaste{17}}kraavidega, et maksimaalselt isoleerida vibratsioonihäired välistest liiklus- ja tootmisseadmetest, tagades stabiilsed lihvimistingimused.
Mida suurem on graniidist platvorm, seda raskem on tasasust kontrollida. Suurte integreeritud ülevaatusplatvormide puhul eelistame monoliitset vormimistehnoloogiat, et vältida mitme plaadi kokkupanemisel tekkivaid kõrguserinevusi liitekohtades. Vastavalt kliendi joonistele viiakse konstruktsiooni töötlemine, sealhulgas sisseehitatud keermesooned, juhtmestiku sooned, positsioneerimise võrdlussooned ja vaakum-imemisavad, eelnevalt lõpule. Kõik puurimis- ja soonimistööd korraldatakse töötlemata töötlemise käigus. Viimistlusjärgne töötlemine- kutsuks esile pingemuutuse ja kahjustaks ülitäpselt{5}}viimistletud tasapinda. Kogu töötlemise töövoog vastab rahvusvaheliselt tunnustatud metroloogiastandarditele DIN ja ASME. Grade 00 ja Grade 000 ülitäpse{10}}platvorme saab kohandada vastavalt kliendi vajadustele.
Põhjalik järk-järguline kontroll läbib kogu platvormide tootmistöövoo, mitte ainult juhusliku valimi võtmist pärast valmimist. Pärast iga lihvimisprotseduuri kontrollivad tehnikud uuesti tasasust, kasutades imporditud suure täpsusega -taset ja laserinterferomeetreid. Kõik testimisvahendid omavad kehtivaid metroloogiaasutuste väljastatud kalibreerimistunnistusi koos täielikult jälgitavate mõõtmisandmetega. Lõplik põhjalik kontroll viiakse läbi pärast tootmist. Toorikut hoitakse teatud aja jooksul paigal konstantsel temperatuuril. Tarnimine korraldatakse alles pärast ilmse deformatsiooni puudumise kinnitamist, mis tagab, et tarnitud graniidist platvorm säilitab nanomeetri{6}}tasapinna ka pikaajalisel{7}}käitamisel kliendi saitidel.
Täppiskomponentide tootjana, kellel on ISO kolmekordne juhtimissüsteemi sertifikaat, CE ja RoHS kvalifikatsioon, omame enam kui 20 rahvusvaheliselt registreeritud patenti ja kaubamärki. Teeme pikaajalist-projektikoostööd pooljuhtide ja optiliste mõõtmissektori juhtivate ettevõtetega, aga ka ülemere ülikoolide laboritega. Lisaks graniidist kontrollplatvormidele saame tarnida sobivaid täppis-graniidist Z-teljega vertikaalseid plaate, L-kujulisi tugesid, pöördlauaaluseid, õhk-laagrialuseid ja muid varuosi. Kasutades ära meie geograafilist lähedust Qingdao sadamale, korraldame tõhusalt konteinervedu ja lühendame ülemere klientide tarnetsükleid.
Mõõtmised nanoskaalal ei talu vähimatki kõrvalekallet võrdlusalusest. UNPARALLELED järgib järjekindlalt rangeid ülitäpse tootmisstandardeid{1}. Esmaklassiliste toormaterjalide, suletud ahelaga töötlemise töövoogude ja rangete mitme-etapiliste kontrollisüsteemide toel valmistame jätkuvalt kõrge-stabiilsusega graniidist võrdlusplatvorme ülemaailmsele täppiskontrollitööstusele. Optimeerime pidevalt ülitäpseid{7}töötlusmeetodeid, et aidata kõikidel tipptasemel-kontrolliseadmetel saavutada stabiilne ja täpne mõõtmistulemus.